課程資訊
課程名稱
電子束技術實習
Lab on E-beam Technology 
開課學期
100-1 
授課對象
電機資訊學院  電子工程學研究所  
授課教師
管傑雄 
課號
EEE5038 
課程識別碼
943 U0400 
班次
 
學分
全/半年
半年 
必/選修
選修 
上課時間
星期三5(12:20~13:10) 
上課地點
電二145 
備註
總人數上限:10人 
Ceiba 課程網頁
http://ceiba.ntu.edu.tw/1001ebeamop 
課程簡介影片
 
核心能力關聯
核心能力與課程規劃關聯圖
課程大綱
為確保您我的權利,請尊重智慧財產權及不得非法影印
課程概述

實習包括電子束實驗的學習與研討
1.掃描式電子束顯微鏡的訓練:
利用掃描式電子束來觀察表面微結構,包括電子的加速電壓由500V到30KV的應用。
2.電子束微影系統的訓練:
利用電子束微影系統製作奈米結構,包括電子束加速電壓50KV及100KV兩類。
3.聚焦離子束(雙束)系統的訓練:
利用聚焦離子束(雙束)進行蝕刻及同時利用電子束進行觀察,另外包括沉積及低溫冷凍切片及穿透式電子束
顯微鏡試片的製作。
4.研討電子束微影技術在各種不同基板的製作上之參數及後續製程之問題。
5.研討電子束技術在各種不同領域的應用,包括電子、光電、生醫機電及奈米機電等領域。
6.針對選修學生在原指導教授指導下研究專題之討論。
7.專題講演:針對特殊題目,講授相關知識內容或請國際知名學者蒞臨指導及講演。

 

課程目標
奈米科技在各個不同的研究領域(電子、光電、生醫機電及奈米機電)均有極為重要的應用價值,其中尤以奈米結構由電子束相關技術所研製出的,更有其發展及應用的空間,本課程集合目前最重要的電子束相關技術及設備,對學生提供訓練及研討並深入探討此技術在不同跨領域的應用,可擴展學生對此技術的了解及實際操作的情形。 
課程要求
進入實驗室需經指導教授的同意。 
預期每週課後學習時數
 
Office Hours
 
指定閱讀
 
參考書目
教科書:
1.Handbook of Microlithography, Micromachining and Microfabrication
2.Monographs in practical electron microscopy in materials science
3.Electron-Beam Technology in Microelectronic Fabrication
4.Handbook of VLSI Microlithography
5.Nanolithography: A Borderland between STM, EB, IB, and X-Ray Lithographies
參考書目:
相關儀器操作手冊 
評量方式
(僅供參考)
   
課程進度
週次
日期
單元主題